发明名称 基板乾燥装置、基板乾燥方法、控制程式、基板乾燥装置的制造方法
摘要
申请公布号 TWI483303 申请公布日期 2015.05.01
申请号 TW100104244 申请日期 2011.02.09
申请人 荏原制作所股份有限公司 发明人 石桥知淳;小川贵弘;杉田谦一;梶田真二;深谷孝一;中村显
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项 一种基板乾燥方法,系一边将冲洗液流及可含有IPA之乾燥气体流供给至在水平面内旋转之基板,一边使前述冲洗液流及前述乾燥气体流从前述旋转的基板的中心侧往外周侧移动,并亦将未满0.15μm之缺陷当作抑制对象而使前述基板乾燥之方法,包含有:使在属于前述乾燥气体流冲击前述基板的范围之冲击范围中而属于有前述基板的旋转中心存在之前述基板的范围的中心区域乾燥之中心区域乾燥工序;以及使存在于前述基板之前述中心区域的外侧之外周区域乾燥之外周区域乾燥工序,而使前述乾燥气体流中可含有的前述IPA,在前述中心区域乾燥工序中系维持在不到2mol%之浓度,在前述外周区域乾燥工序中系设定为比前述中心区域乾燥工序中的浓度高之浓度;在包含前述中心区域乾燥工序及前述外周区域乾燥工序之从前述基板的旋转中心到外周端使前述基板乾燥之工序中,不使前述基板的旋转速度降低。
地址 日本