发明名称 Vakuumbehandlungsanlage zur Behandlung eines bandförmigen Substrates
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine Vakuumbehandlungsanlage zur Behandlung eines bandförmigen Substrates in der das bandförmige Substrat entlang einer Substratführungslinie transportierbar ist und welche eine Kammer mit einer Behandlungseinrichtung aufweist, wobei die Behandlungseinrichtung als austauschbares Behandlungsmodul ausgebildet ist. Die Aufgabe der Erfindung, eine ausreichend lange Substratbehandlungsstrecke und in ihrer Länge unabhängig von der Länge einer Kammer in der Vakuumbehandlungsanlage zu realisieren und das zu beschichtende Substrat unnötig durch zusätzliche Transportlogistik zu strapazieren, wird dadurch gelöst, dass die Behandlungseinrichtung eine Substratbehandlungsstrecke aufweist, wobei die Länge der in dem Behandlungsmodul gebildeten Substratbehandlungsstrecke durch eine variierbar gestaltete mehrfache Umlenkung der Substratführungslinie variabel ausgebildet ist.</p>
申请公布号 DE102013111968(A1) 申请公布日期 2015.04.30
申请号 DE201310111968 申请日期 2013.10.30
申请人 VON ARDENNE GMBH 发明人 DIMER, MARTIN;HENTSCHEL, MICHAEL;DASSLER, ANDREAS
分类号 C23C14/56;C23C16/54 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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