一种MOCVD反应腔

摘要

本实用新型公开了一种MOCVD反应腔，包括壳体及位于所述壳体内的加热器、载片器和喷射器，所述壳体、加热器、载片器和喷射器呈包裹设计，由内到外依次为喷射器、载片器、加热器和壳体，所述壳体连接有抽气管路用以排放反应气体；所述喷射器位于所述壳体的位置，其侧壁分布有一系列喷射口；所述载片器竖直设置于所述喷射器的外侧，其侧壁分布有一系列载片固定装置；所述加热装置位于所述载片器的侧壁。本实用新型之MOCVD反应腔可以通过增加反应腔（包含载片器）的直径和长度，提高载片数量，实现产量提升；同时可以改善因外延应力和离心力共同造成的衬底里外生长温度和速率差异。

主权项

一种MOCVD反应腔，包括壳体及位于所述壳体内的加热器、载片器和喷射器，所述壳体、加热器、载片器和喷射器呈包裹设计，由内到外依次为喷射器、载片器、加热器和壳体，所述壳体连接有抽气管路用以排放反应气体；所述喷射器位于所述壳体的中央位置，其侧壁分布有一系列喷射口；所述载片器竖直设置于所述喷射器的外侧，其侧壁分布有一系列载片固定装置；所述加热装置位于所述载片器的侧壁。