发明名称 |
激光掩膜及使用该激光掩膜的连续横向固化结晶方法 |
摘要 |
公开了一种激光掩膜及使用该激光掩膜的连续横向固化结晶方法。在一个实施例中,所述激光掩膜包括:掩膜基板,包括:i)被配置为使光透射过去的至少一个透光部分,以及ii)多个遮光部分,由插入所述遮光部分之间的透光部分隔开。所述遮光部分被配置为挡光;并且多个突出和凹陷区域位于所述掩膜基板的遮光部分上。所述突出和凹陷区域包括交替形成的多个凹进部分和多个凸起部分。 |
申请公布号 |
CN102063011B |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201010506962.6 |
申请日期 |
2010.10.11 |
申请人 |
三星显示有限公司 |
发明人 |
朴鲜;柳春基;朴钟贤;李律圭;姜镇熙 |
分类号 |
G03F1/30(2012.01)I;C30B28/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/30(2012.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
罗正云;宋志强 |
主权项 |
一种激光掩膜,包括:掩膜基板,包括:i)被配置为使光透射过去的至少一个透光部分,ii)多个遮光部分,由插入所述遮光部分之间的透光部分隔开,其中所述遮光部分被配置为挡光,和iii)具有彼此相对的第一表面和第二表面的底基板,其中所述遮光部分位于所述底基板的第一表面和第二表面上;以及位于所述掩膜基板的遮光部分上的多个突出和凹陷区域,其中所述多个突出和凹陷区域中的每一个包括交替形成的多个凹进部分和多个凸起部分,所述多个遮光部分中的每一个包括位于所述底基板的第一表面上的第一子遮光部分以及位于所述底基板的第二表面上的第二子遮光部分,其中所述多个突出和凹陷区域中的每一个包括形成在所述第一子遮光部分上的第一子突出和凹陷区域以及形成在所述第二子遮光部分上的第二子突出和凹陷区域,并且其中所述第一子遮光部分和所述第二子遮光部分相对于所述底基板彼此直接相对。 |
地址 |
韩国京畿道 |