发明名称 用于液体处理的设备
摘要 本发明涉及一种用于液体处理的设备,包括:过滤器模块,该过滤器模块具有过滤器、用于液体的入口、用于液体的第一出口、用于被过滤液体的第二出口,其中入口和第一出口位于过滤器的第一侧,第二出口位于过滤器的第二侧;第一UV处理模块,该第一UV处理模块具有第一UV光源,其中第一UV处理模块与过滤器模块的第一出口相连,并适于接收来自过滤器模块的液体以及将该液体暴露于来自第一UV光源的UV光;以及第二UV处理模块,该第二UV处理模块具有第二UV光源,其中第二UV处理模块与过滤器模块的第二出口相连,并适于接收来自过滤器模块的被过滤液体以及将该液体暴露于来自第二UV光源的UV光。
申请公布号 CN102711944B 申请公布日期 2015.04.29
申请号 CN201080053336.4 申请日期 2010.11.24
申请人 基伊埃韦斯伐里亚分离机集团有限公司 发明人 维尔弗里德·里格尔斯
分类号 B01D29/25(2006.01)I;C02F1/32(2006.01)I;C02F1/36(2006.01)I 主分类号 B01D29/25(2006.01)I
代理机构 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人 余朦;王艳春
主权项 用于液体处理的设备,包括:过滤器模块(10),所述过滤器模块(10)具有过滤器(18)、用于液体的入口(12)、用于液体的第一出口(14)、用于被过滤液体的第二出口(16),其中,所述入口(12)和所述第一出口(14)位于所述过滤器(18)的第一侧,所述第二出口(16)位于所述过滤器的第二侧;第一UV处理模块(26),所述第一UV处理模块(26)具有第一UV光源(28),其中,所述第一UV处理模块(26)与所述过滤器模块(10)的所述第一出口(14)相连,并适于接收来自所述过滤器模块(10)的液体以及将所接收的液体暴露于来自所述第一UV光源(28)的UV光;以及第二UV处理模块(40),所述第二UV处理模块(40)具有第二UV光源(42),其中,所述第二UV处理模块(40)与所述过滤器模块(10)的所述第二出口(16)相连,并适于接收来自所述过滤器模块(10)的被过滤液体以及将所接收的被过滤液体暴露于来自所述第二UV光源(42)的UV光,其中,所述第二UV处理模块(40)还与所述第一UV处理模块(26)相连,并适于接收来自所述第一UV处理模块(26)的液体以及将所接收的液体暴露于来自所述第二UV光源(42)的UV光。
地址 德国厄尔德