发明名称 一种大调整范围的激光点阵列投射装置
摘要 本实用新型属于测量技术领域,具体涉及一种大调整范围的激光点阵列投射装置,目的是解决高温物体表面不能粘贴反光材料标志点以及高温高亮背景下低功率激光衍射点被淹没的问题。其特征在于:它包括光纤激光器阵列和激光阵列投射指向调整机构;其中,光纤激光器阵列由任意个的光纤激光器(1)阵列而成,激光阵列投射指向调整结构由与光纤激光器(1)数量相同的调整机构(4)阵列而成。本实用新型采用光纤激光器阵列、和激光阵列投射指向调整结构,可以任意调整标志点阵列的排列规则与疏密程度,其调整范围大、结构紧凑、操作方便。
申请公布号 CN204301684U 申请公布日期 2015.04.29
申请号 CN201420633714.1 申请日期 2014.10.29
申请人 北京航天计量测试技术研究所;中国运载火箭技术研究院 发明人 高越;刘柯;孙增玉;宋金城;郭磊;董利军;梁雅军
分类号 G01B11/00(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I 主分类号 G01B11/00(2006.01)I
代理机构 核工业专利中心 11007 代理人 王朋
主权项 一种大调整范围的激光点阵列投射装置,其特征在于:它包括光纤激光器阵列和激光阵列投射指向调整机构;其中,光纤激光器阵列由任意个的光纤激光器(1)阵列而成,激光阵列投射指向调整结构由与光纤激光器(1)数量相同的调整机构(4)阵列而成。
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