双重图形化方法、形成互连结构的方法

摘要

一种双重图形化的方法、形成互连结构的方法，所述双重图形化方法，包括：提供基底；在基底上形成抗反射层；在抗反射层上形成第一可图形化介质层；图形化第一可图形化介质层，形成第一结构；形成第二可图形化介质层，覆盖第一结构和抗反射层，且第二可图形化介质层的厚度大于所述第一结构的高度；去除部分第二可图形化介质层，使第二可图形化介质层的厚度与第一结构的高度相近，两者之差范围小于200埃；图形化去除了部分的第二可图形化介质层，形成第二结构；刻蚀所述抗反射层，露出所述基底，将所述第一结构和第二结构形成的图形转移到所述抗反射层。本发明的第一结构和第二结构的高度相同，在后续的平坦化工艺中，平坦化工艺易于控制。

主权项

一种双重图形化方法，其特征在于，包括：提供基底；在所述基底上形成抗反射层；在所述抗反射层上形成第一可图形化介质层，所述第一可图形化介质层具有光刻胶的性质、在进行相应的处理后可以转换为低k介质层；图形化所述第一可图形化介质层，形成第一结构；图形化所述第一可图形化介质层的方法为：直接对所述第一可图形化介质层进行曝光、显影形成第一结构；形成第二可图形化介质层，覆盖所述第一结构和抗反射层，且所述第二可图形化介质层的厚度大于所述第一结构的高度；所述第二可图形化介质层具有光刻胶的性质、在进行相应的处理后可以转换为低k介质层；利用溶剂处理或者干法刻蚀去除部分所述第二可图形化介质层，使所述第二可图形化介质层的厚度与所述第一结构的高度之差小于200埃；这样第一结构和第二结构的高度相近，在平坦化工艺中，平坦化工艺易于控制；图形化所述去除了部分的第二可图形化介质层，形成第二结构；刻蚀所述抗反射层，露出所述基底，将所述第一结构和第二结构形成的图形转移到所述抗反射层。