| 发明名称 | 一种形成有取向膜的基板的清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种形成有取向膜的基板的清洗方法，涉及显示技术领域，采用该清洗方法极大改善了因人造纤维摩擦布残留在取向膜引起的取向异常，进而降低了显示面板发生白Mura的概率。一种形成有取向膜的基板的清洗方法，该方法包括：对所述取向膜进行冷却处理，在10s-40s的时间范围内，使得所述取向膜的温度降低10℃-30℃；对冷却处理后的所述取向膜进行清洗。用于对形成有取向膜的基板的清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN104570496A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201510058837.6 | 申请日期 | 2015.02.04 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 李建;范宇光;周永山 |
| 分类号 | G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1337(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种形成有取向膜的基板的清洗方法，其特征在于，包括：对所述取向膜进行冷却处理，在10s‑40s的时间范围内，使得所述取向膜的温度降低10℃‑30℃；对冷却处理后的所述取向膜进行清洗。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||