| 发明名称 |
Ｃ粒子が分散したＦｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲット |
| 摘要 |
<p>Ｐｔが５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下、Ｃが０．１ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下、酸化チタンが０．０５ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下、残余がＦｅからなることを特徴とする磁気記録膜用スパッタリングターゲット。高価な同時スパッタ装置を用いることなくグラニュラー構造磁性薄膜の作製を可能にし、さらには、スパッタリング時に発生するパーティクル量を低減した高密度なスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。【選択図】図１</p> |
| 申请公布号 |
JPWO2013094605(A1) |
申请公布日期 |
2015.04.27 |
| 申请号 |
JP20130510141 |
申请日期 |
2012.12.18 |
| 申请人 |
ＪＸ日鉱日石金属株式会社 |
发明人 |
荻野 真一;佐藤 敦;中村 祐一郎 |
| 分类号 |
C23C14/34;B22F1/00;C22C5/04;C22C38/00 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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