ガスバリアーフィルム

摘要

真空紫外光照射処理が施されて基材１上に積層されたガスバリアー層２と保護層３とを備えるガスバリアーフィルム１０であって、ガスバリアー層２が、その少なくとも一部にＳｉＯｘＮｙの組成を有し、０．１≦̸ｘ／（ｘ＋ｙ）≦̸０．９の条件を満たすとともに、ガスバリアー層２の膜密度に対する保護層３の膜密度の比が、０．２以上０．７５以下であるという規定を満たすようにした。