| 摘要 |
ハーフインチサイズのウェハ上に形成されたレジストの最適な現像方法および装置。極小単位数の半導体デバイスを作製するウェハサイズのウェハ上に形成されたレジストの現像方法であって、回転を静止されたウェハ上に、現像液厚みが最大となるまで現像液を滴下する第１ステップ、ウェハを回転させながら現像する第２ステップ、ウェハの回転を静止して第１ステップでの現像液量の約半分の現像液をウェハ上に供給する第３ステップ、ウェハを回転させながら、第２ステップより長い現像時間で現像する第４ステップからなる現像方法およびその装置。 |
