| 摘要 |
【課題】本発明の目的は、高い生産速度で、そして最も低い装置コストで、全ての基板の一貫した高品質の処理を可能にする上述のタイプの処理モジュールを提供することにある。【解決手段】本発明は、プロセスモジュール内に配置された少なくとも一つの排気可能な処理チャンバと、前記処理チャンバの中で処理されるべき少なくとも一つの平坦な基盤をそれぞれ収容するために少なくとも一つの基盤の搬送方向に沿って、前記処理モジュールを通って水平方向に移動可能な少なくとも一つの支持装置とを有する処理モジュールに関する。上記目的は、上記したタイプの処理モジュールであって、その中の少なくとも一つの処理チャンバが支持装置によって、処理モジュールに関連して物理的に閉鎖可能であって、その処理チャンバは、基盤の搬送の方向を横切る少なくとも一つの閉じる方向に位置が可変であって、少なくとも一つの支持装置が少なくとも一つの処理チャンバの底を形成する処理モジュールによって解決される。【選択図】図１ |
