一种真空离子镀膜设备的新型磁场结构

摘要

本实用新型公开了一种真空离子镀膜设备的新型磁场结构，包括靶座、磁铁座和内设的冷却装置，所述靶座顶端设有用于容纳固定靶材的靶材凹槽，靶材两端均设有突出辅助阳极，靶材底部安装于阴极体凹槽内；所述阴极体与铝板之间设有永磁体，且永磁体紧贴于铝板顶部表面；靶座底部通过螺纹与支架旋接；所述铝板下方设置一带有线圈护罩并由线圈骨架支撑的电磁线圈；靶座底部通过螺纹与支架旋接；所述冷却装置为固定与弧离子镀膜装置中心的水道，其中设置了电磁线圈和永磁体或碳素钢共同对弧靶表面磁场产生作用，调整极为方便，产生的磁场形状较好，可以有效提高靶材烧蚀效率，改善成膜质量。

主权项

一种真空离子镀膜设备的新型磁场结构，包括靶座（10）、磁铁座（5）和内设的冷却装置，其特征在于：所述靶座（10）顶端设有用于容纳固定靶材（1）的靶材（1）凹槽，靶材（1）两端均设有突出辅助阳极（2），靶材（1）底部安装于阴极体（3）凹槽内；所述阴极体（3）与铝板（6）之间设有永磁体（4），且永磁体（4）紧贴于铝板（6）顶部表面；靶座（10）底部通过螺纹与支架（11）旋接；所述铝板（6）下方设置一带有线圈护罩（9）并由线圈骨架（8）支撑的电磁线圈（7）；靶座（10）底部通过螺纹与支架（11）旋接；所述冷却装置为固定与弧离子镀膜装置中心的水道。