发明名称 曝光方法及曝光装置
摘要
申请公布号 TWI481971 申请公布日期 2015.04.21
申请号 TW095120320 申请日期 2006.06.08
申请人 胜利科技股份有限公司 发明人 饭野仁
分类号 G03F9/02;G03F7/207;H01L21/677;H01L21/027 主分类号 G03F9/02
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项 一种曝光方法,系具有:藉由基板搬运部以一定速度朝一定方向搬运基板的步骤;以具有沿着与前述基板的搬运方向正交之排列之受光元件之线性CCD,对预先形成于前述基板的曝光区域之属于曝光对象之基准图案之图案边缘进行摄像,并检测出位于基板上之前述搬运方向及与该搬运方向成直角之方向的基准位置的步骤;当前述线性CCD所摄像的前述基准图案藉由前述基板搬运部从摄像位置移动至曝光位置时,将前述遮罩之位置予以调整,以使对应之遮罩的开口部之位置与前述基板上的前述基准位置一致的步骤;以及于前述曝光位置将来自连续光源的曝光光线通过设置于曝光光学系统之光路上的前述遮罩并予以照射,以将前述遮罩之前述开口部的像转印于前述基板上且将于前述基板连续形成沿着前述搬运方向的曝光区域的步骤。
地址 日本