用于保护极紫外光光学元件之装置;APPARATUS FOR PROTECTING EUV OPTICAL ELEMENTS

摘要

一种装置，其系具有：一腔室具有一内壁，以及一区域在该腔室内，其系于该装置操作中时析出一污染材料。多个叶片位于该内壁之一部份上，该等叶片中之每一者有一第一表面以沿着在该叶片与该区域之间的一方向定向以及有邻接该第一表面之一第二表面经定向成可偏转撞击该第二表面之该污染材料离开该区域，该等第二表面经制作成有特定尺寸且相互并列使得该等第二表面可实质防止该污染材料撞击该内壁之该部份。该等叶片中之每一者的至少一部份可被覆盖一网状物。可加热该等叶片，以及可加热至少到该污染材料的一熔点。该装置可特别应用于在用于产生供半导体微影技术使用之极紫外光的系统中保护用作集光器的多层反射镜。