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发明名称
非挥发性记忆体结构;NONVOLATILE MEMORY STRUCTURE
摘要
一种非挥发性记忆体结构,包含有一P型基底;一N型井,设于该P型基底中;以及一PMOS储存电晶体,设于该N型井上。该PMOS储存电晶体包含有一浮置闸极以及一辅助闸极,紧邻着该浮置闸极的一侧设置,其中该浮置闸极以及该辅助闸极共同位于该PMOS储存电晶体的一浮置闸极通道上。该辅助闸极与该浮置闸极之间有一空隙,使得该辅助闸极与该浮置闸极至少在该浮置闸极通道正上方是彼此不相连、互相分隔开来。
申请公布号
TW201515239
申请公布日期
2015.04.16
申请号
TW103132501
申请日期
2014.09.19
申请人
力旺电子股份有限公司 EMEMORY TECHNOLOGY INC.
发明人
徐德训 HSU, TE HSUN;陈纬仁 CHEN, WEI REN;陈学威 CHEN, HSUEN WEI;曹沐潆 TSAO, MU YING;陈英哲 CHEN, YING JE
分类号
H01L29/788(2006.01);H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01)
主分类号
H01L29/788(2006.01)
代理机构
代理人
吴丰任戴俊彦
主权项
地址
新竹市新竹科学园区园区二路47号305室 TW
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