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经营范围
发明名称
半导体装置和其制造方法;SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要
本发明的课题之一在于:提供使用不包含In、Ga等的稀有金属而包含Zn的氧化物层的电晶体;在使用包含Zn的氧化物层的电晶体中,减少截止电流并使电特性稳定。在使用包含Zn的氧化物层的电晶体中,在氧化物层上层叠包含绝缘氧化物的氧化物半导体层并以氧化物层和源极电极层或汲极电极层隔着包含绝缘氧化物的氧化物半导体层重叠的实施例形成电晶体,从而可以减少电晶体的临界值电压的不均匀并使电特性稳定。
申请公布号
TW201515233
申请公布日期
2015.04.16
申请号
TW103145488
申请日期
2010.04.07
申请人
半导体能源研究所股份有限公司 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人
山崎舜平 YAMAZAKI, SHUNPEI;鄕户宏充 GODO, HIROMICHI;岸田英幸 KISHIDA, HIDEYUKI
分类号
H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/28(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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