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发明名称
绘图装置及绘图方法
摘要
获致绘图装置及绘图方法,其在对被绘图体的倾斜形状之绘图区域绘制图案时,使图案光聚焦于倾斜绘图区域以提高图案的解析度,防止图案的变形,使图案光垂直入射于倾斜绘图区域的光阻膜以提高图案之解析度。绘图装置,其藉由光调变元件对被绘图体照射绘图光,将该被绘图体对该绘图光连续扫瞄,同时将图案绘制在该被绘图体,该绘图装置包括:固持该被绘图体的固持装置;测定装置,其测定由该固持装置所固持的该被绘图体之被绘图面的倾斜;倾斜调整装置,其调整该固持装置的倾斜;倾斜控制装置,其对应于该测定装置的测定结果,控制该倾斜调整装置,以使得该绘图光略垂直地入射到该被绘图体的被绘图面。
申请公布号
TW201514639
申请公布日期
2015.04.16
申请号
TW103130345
申请日期
2014.09.03
申请人
奥克制作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人
田端秀敏 TABATA, HIDETOSHI;松永真一 MATSUNAGA, SHINICHI
分类号
G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本 JP
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