发明名称 一种刻蚀多层石墨烯的方法
摘要 本发明公开了一种刻蚀多层石墨烯的方法,可用于实现多层石墨烯中不同层内同步刻蚀。本发明利用金属纳米颗粒对石墨烯的催化刻蚀作用来实现多层石墨烯的同步刻蚀,对不同层石墨烯进行刻蚀,且各层的刻蚀图形互不影响,并可以对多层石墨烯中的若干层进行选择性地刻蚀。刻蚀形成原子尺度光滑平整、手性一致的石墨烯边缘。
申请公布号 CN102701144B 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201210213819.7 申请日期 2012.06.25
申请人 北京大学 发明人 魏子钧;叶天扬;胡保东;傅云义;黄如;张兴
分类号 B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 贾晓玲
主权项 一种对不同层石墨烯进行同步刻蚀的方法,其步骤包括:1)在衬底上制备多层石墨烯;2)在多层石墨烯表面上形成多个台阶,其中台阶的高度为1nm~300nm,台阶之间的距离≥10nm;3)在石墨烯台阶处淀积直径为1nm~300nm的金属纳米颗粒;4)在Ar/H<sub>2</sub>氛围下退火,具体包括:匀速升温,保温温度在600℃~1100℃范围内,保温时间为30min~3h之间,自然冷却至室温,升温、保温和降温过程中要保持Ar/H<sub>2</sub>氛围不变,Ar/H<sub>2</sub>的流量分别在100sccm~500sccm和10sccm~50sccm范围内,从而实现多层石墨烯的同步刻蚀。
地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号