发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
摘要 본원의 발명에 관한 반도체장치의 제조방법은, 복수의 피처리물을, 제1트레이 위와, 상기 제1트레이와 접하는 제2트레이 위에 늘어놓은 공정과, 상기 제1트레이와 상기 제2트레이가 접하는 접촉 위치의 바로 위에 형성된 조사장치로부터 조사물을 방출하면서, 상기 조사장치를 상기 접촉 위치를 횡단하는 방향인 제1 방향을 따라 스윙시키고, 상기 제1트레이와 상기 제2트레이를 상기 제1 방향과 수직을 이루는 제2 방향으로 이동시킴으로써 상기 복수의 피처리물에 상기 조사물을 조사하는 것을 복수회 반복하는 복수의 조사공정과, 상기 복수의 조사공정의 사이에 적어도 1회 실시되고, 상기 제1트레이와 상기 제2트레이의 상기 제2 방향으로 향하는 방향을 변경하지 않고 상기 제1트레이와 상기 제2트레이의 위치를 교체하는 교체공정을 구비한다.
申请公布号 KR20150041126(A) 申请公布日期 2015.04.15
申请号 KR20157006153 申请日期 2012.09.26
申请人 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 发明人 테라시마 토모히데;요시우라 야스히로;오츠키 에이코
分类号 H01J37/30;H01L21/67;H01L21/677 主分类号 H01J37/30
代理机构 代理人
主权项
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