| 摘要 |
<p>본 발명은 ICP(INDUCTIVE COUPLED PLASMA) 플라즈마 반응에 의해 생성된 실리콘 나노입자(A)의 응집 방지 효과를 극대화시켜 실리콘 나노입자(A)의 입도제어 성능을 향상시키는 동시에, 생성된 실리콘 나노입자(A)를 포집시키기 위한 매쉬필터(51)의 배출성능을 향상시키며, 장치의 가동 중에도 상기 매쉬필터(51)의 교체가 가능하도록 구성함으로써, 실리콘 나노입자(A)DML 생산성을 향상시키고, 제조비용을 절감시킬 수 있도록 하는 실리콘 나노입자 제조장치를 제공함을 목적으로 한다. 이를 위해 본 발명은 주입된 가스가 ICP(INDUCTIVE COUPLED PLASMA) 코일(21)의 플라즈마 반응에 의해 실리콘 나노입자(A)로 생성되고, 상기 실리콘 나노입자(A)의 입자간 응집 방지를 위해 단극성으로 하전시켜주는 코로나 방전부(300)가 포함되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노입자 제조장치를 제공한다.</p> |
