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Aparelho para realizar um processo de deposição química de valor de plasma. A invenção diz respeito a um aparelho para realizar um processo de deposição química de vapor de plasma. O aparelho compreende um ressoador basicamente cilíndrico que é provido com uma parede cilíndrica externa que encerra uma cavidade ressoante estendendo-se em uma direção circunferencial em torno de um eixo cilíndrico. O ressoador é adicionalmente provido com porções de parede lateral delimitando a cavidade ressoante na direção cilíndrica, e com uma configuração fendilhada estendendo-se em uma direção circunferencial em torno do eixo cilíndrico, provendo acesso da cavidade ressoante radialmente para dentro. Adicionalmente, a configuração fendilhada inclui seções de fendas que são mutuamente deslocadas na direção cilíndrica. |
