发明名称 |
EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット及びそのような照明光学ユニットを含む光学系 |
摘要 |
EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット(26)は、リソグラフィマスク(7)を配置することができる照明視野(5)に照明光(16)を案内するように機能する。複数のファセット(25)を有するファセットミラー(19)は、照明光(16)を照明視野(5)に案内するように機能する。照明光部分ビームを案内するそれぞれ1つの照明チャネル(27)は、ファセット(25)のうちの1つによって予め決定される。正確に1つの照明チャネル(27)が、ファセット(25)のうちのそれぞれ1つにわたって案内される。照明光学ユニット(26)は、照明光学ユニット(26)が作動している時のいずれの時間及び照明視野(5)内のいずれの点でも、異なる照明チャネル(27)にわたって案内される照明光部分ビームのあらゆる対が、照明光(16)のコヒーレンス持続時間τ&kgr;よりも大きい時間差(&Dgr;t)を有する入射時間にこの照明視野点上に入射するように具現化される。現れるものは、照明光学ユニットの照明視野の照明の品質が改善された照明光学ユニットである。【選択図】図2 |
申请公布号 |
JP2015511064(A) |
申请公布日期 |
2015.04.13 |
申请号 |
JP20140560317 |
申请日期 |
2013.03.04 |
申请人 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
发明人 |
パトラ ミヒャエル;デギュンター マルクス |
分类号 |
H01L21/027;G02B17/06;G02B19/00;G03F7/20 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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