| 摘要 |
Винахід стосується галузі нанотехнологій, а саме до способів отримання наночастинок на поверхні носіїв різного типу методом вакуумного осадження. Особливостями реалізації способу є наявність: вакуумного обладнання з робочою камерою, системи випаровування осаджуваної речовини, системи формування спрямованого потоку осаджуваної речовини (якщо така не передбачена системою випаровування), заслінки, яку встановлюють на шляху потоку розпиленої речовини між джерелом та носієм на відстані від носія, яка забезпечує розгортку зони "півтіні" на довільну площу поверхні носія. Заявлений спосіб забезпечує одержання наноструктур з фіксованими параметрами. |
