| 发明名称 | 图案形成方法和各自使用它的电子器件制造方法和电子器件 | ||
| 摘要 | 图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。 | ||
| 申请公布号 | CN104508563A | 申请公布日期 | 2015.04.08 |
| 申请号 | CN201380034450.6 | 申请日期 | 2013.08.19 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 山中司;井口直也;上羽亮介;山本庆 |
| 分类号 | G03F7/40(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/40(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 牛海军 |
| 主权项 | 一种图案形成方法，所述图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在其上形成有所述第一阴图型图案的所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||