发明名称 一种厚层光刻胶涂覆装置
摘要 厚层光刻胶涂覆装置,属于光刻技术领域,为解决现有技术无法进行上百微米的厚胶涂覆问题,承载平台上安装第一调节螺丝组,第一水平检测仪放置在承载平台上,承载平台上安装直线导轨副,其中两条导轨平行,直线导轨副上分别安装导轨滑套,两个导轨滑套通过两套高低调节组件与光刻胶涂覆移动机构相连,在光刻胶涂覆移动机构整体长度1/2处垂直安装第一推拉杆,第一推拉杆的另一侧通过万向轴承的一侧相连,第一推拉杆与第二推拉杆成一条直线,第二推拉杆与直线电机动子相连,直线电机定子固定在承载平台上;光学基底承载台安装在直线导轨副中间,其上放置光学基底,在光学基底承载台上安装第二调节螺丝组,第二水平检测仪设置在光学基底承载台上。
申请公布号 CN104503209A 申请公布日期 2015.04.08
申请号 CN201410798319.3 申请日期 2014.12.19
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 李文昊;杨硕;巴音贺希格;齐向东;赵旭龙;姜岩秀;焦庆斌
分类号 G03F7/16(2006.01)I 主分类号 G03F7/16(2006.01)I
代理机构 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人 刘慧宇
主权项 一种厚层光刻胶涂覆装置,其特征是,在承载平台(12)上安装有第一调节螺丝组(13)用于对承载平台(12)调平,使用第一水平检测仪(14)检测承载平台(12)的水平度;在承载平台(12)上安装有直线导轨副(15),直线导轨副(15)的两条导轨成平行放置,每条直线导轨副(15)上各安装一个导轨滑套(16),两个导轨滑套(16)通过两套高低调节组件(17)与光刻胶涂覆移动机构(18)相连接;在光刻胶涂覆移动机构(18)整体长度二分之一处垂直安装第一推拉杆(19),第一推拉杆(19)的另一侧通过万向轴承(20)与第二推拉杆(21)相连接,第一推拉杆(19)与第二推拉杆(21)在万向轴承(20)两侧成一条直线,第二推拉杆(21)的另一侧与直线电机动子(23)相连接;直线电机动子(23)与直线电机定子(22)共同组成直线电机,直线电机定子(22)固定在承载平台(12)上;光学基底承载台(25)安装在两条直线导轨副(15)之间,光学基底(24)放置在光学基底承载台(25)上,在光学基底承载台(25)上安装有第二调节螺丝组(26)用于对光学基底承载台(25)调平,使用第二水平检测仪(27)检测光学基底承载台(25)的水平度,在光学基底承载台(25)四周配置有固定螺丝组(28)。
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