发明名称 OXIDE FOR SEMICONDUCTOR LAYER FOR THIN FILM TRANSISTOR, SEMICONDUCTOR LAYER FOR THIN FILM TRANSISTOR WHICH COMPRISES SAID OXIDE, AND THIN FILM TRANSISTOR
摘要 본 발명의 박막 트랜지스터용 산화물은 In, Zn 및 Sn을 적어도 포함하는 In-Zn-Sn계 산화물이며, In-Zn-Sn계 산화물에 포함되는 금속 원소의 함유량(원자%)을 각각 [Zn], [Sn] 및 [In]으로 했을 때, [In]/([In]+[Sn])≤0.5일 때에는 하기 식2, 4를 만족시키고; [In]/([In]+[Sn])>0.5일 때에는 하기 식1, 3, 4를 만족시키는 것이다. [식 1][식 2][식 3][식 4]본 발명에 따르면, TFT의 스위칭 특성이 우수하고, 스퍼터링 시의 스퍼터 레이트가 높고, 또한 웨트 에칭 시의 에칭 레이트가 적절하게 제어된 박막 트랜지스터용 산화물 박막이 얻어진다.
申请公布号 KR101509115(B1) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20137025547 申请日期 2012.03.08
申请人 삼성디스플레이 주식회사 发明人 다오 히로아키;미키 아야;모리타 신야;야스노 사토시;구기미야 도시히로;박 재우;이 제훈;안 병두;김 건희
分类号 G02F1/1368;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/50 主分类号 G02F1/1368
代理机构 代理人
主权项
地址