发明名称 |
用于加工构件表面的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于加工构件表面的方法(100),尤其是喷嘴,所述方法包括下列方法步骤:预处理(120)和/或清洁(130)所述构件的表面;借助于在第一温度时的沉积,在所述构件的表面上形成(140)硅层或含硅的层;在相对于用于形成所述层的步骤比所述第一温度更高的第二温度中,再处理(150)具有在其上形成的层的所述表面的,以便加强硅原子从所述层扩散到构件的表面和/或近表面的区域中;去除(160)在所述表面上形成的层,以便把在形成(140)和再处理层时改变的表面裸露出来。 |
申请公布号 |
CN104487698A |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
CN201380033932.X |
申请日期 |
2013.05.16 |
申请人 |
罗伯特·博世有限公司 |
发明人 |
G·辛德豪夫;F·施塔德勒;W·特施纳 |
分类号 |
F02M61/16(2006.01)I;C23C10/28(2006.01)I;C23C10/60(2006.01)I |
主分类号 |
F02M61/16(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
韩长永 |
主权项 |
一种用于加工构件表面、尤其是喷嘴表面的方法(100),所述方法具有下列方法步骤:‑预处理(120)和/或清洁(130)所述构件(1)的表面(2);‑借助于在第一温度下的沉积,在所述构件的表面(2)上形成(140)硅层或含硅的层(3);‑在第二温度下再处理(150)具有在其上形成的层(3)的所述表面(2),以便加强硅原子(4)从所述层到所述构件的表面和/或所述构件的近表面区域中的扩散,所述第二温度比用于形成所述层的步骤(140)中的第一温度高;‑去除(160)在所述表面(2)上形成的层(3),以便把在形成和再处理所述层时改变的表面裸露出来。 |
地址 |
德国斯图加特 |