发明名称 超声波清洁方法
摘要
申请公布号 TWI479535 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW101148954 申请日期 2012.12.21
申请人 世创电子材料公司 发明人 榛原照男;久保悦子;森良弘;内部真佐志
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 陈翠华 台北市松山区南京东路3段261号6楼
主权项 一种超声波清洁方法,其系用超声波照射具有气体溶解在其中的溶液,以对在该溶液中的待清洁物品进行清洁,该方法包括以下步骤:- 用超声波照射该具有一第一溶解气体浓度的溶液;及- 在用超声波照射该溶液的状态下,将该溶液中的溶解气体浓度从该第一溶解气体浓度改变至一低于该第一溶解气体浓度的第二溶解气体浓度,透过用超声波照射该溶液发生声致发光,同时将该溶液中的该溶解气体浓度从该第一溶解气体浓度改变至该第二溶解气体浓度,藉此可在该第二溶解气体浓度下发生声致发光,若系于未用超声波照射该溶液的状态下调整至该第二溶解气体浓度,则无法发生声致发光。
地址 德国