用于超光滑抛光的磁流变流体

摘要

用于基板表面的磁流变超光滑抛光的磁流变流体，包含：含水载体载剂；第一量的平均直径为1微米到2微米的磁性颗粒；以及第二量的平均直径为小于1纳米到15纳米的研磨剂颗粒。所述流体可进一步包含化学稳定剂。优选地，所述磁性颗粒的尺寸比所述研磨剂颗粒的尺寸大2至3个数量级。优选地，所述磁性颗粒是球形的且包括羰基铁，且优选地，所述研磨剂颗粒选自氧化铝、氧化锆、氧化铈、二氧化硅、碳化硼、碳化硅、天然金刚石、人造金刚石、以及它们的组合。

主权项

用于基板表面的磁流变超光滑抛光的磁流变流体，包含：含水载体载剂；第一量的具有第一平均直径的磁性颗粒；以及第二量的具有第二平均直径的研磨剂颗粒，其中所述第一平均直径比所述第二平均直径大2至3个数量级。