| 发明名称 | 一种钯掺杂中空多孔二氧化锡微立方体及其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种钯掺杂中空多孔二氧化锡微立方体及其制备方法和应用，所述钯掺杂中空多孔二氧化锡微立方体尺寸为1～2μm，壳层由20～50nm的二氧化锡颗粒组成，厚度为100～200nm。其制备方法包括以下步骤：通过共沉淀和自模板碱液刻蚀方法合成中空ZnSn(OH)<sub>6</sub>微立方体作为前驱体；直接对其进行钯掺杂，得钯掺杂中空ZnSn(OH)<sub>6</sub>微立方体；然后经高温退火和酸溶液选择性浸出处理，得所述钯掺杂中空多孔二氧化锡微立方体。该方法操作简单，成本低，环境友好，反应条件温和。所得产物尺寸均一，分散良好，比表面积高，应用于制备气敏元件，对乙醇等气体表现出了较高的选择性和灵敏度以及较短的响应恢复时间。 | ||
| 申请公布号 | CN104483351A | 申请公布日期 | 2015.04.01 |
| 申请号 | CN201410699544.1 | 申请日期 | 2014.11.27 |
| 申请人 | 武汉工程大学;武汉巨正环保科技有限公司 | 发明人 | 刘善堂;肖丽;雷鸣;周发武 |
| 分类号 | G01N27/00(2006.01)I;C01G19/02(2006.01)I | 主分类号 | G01N27/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人 | 崔友明 |
| 主权项 | 一种钯掺杂中空多孔二氧化锡微立方体，其特征在于，在中空多孔二氧化锡(SnO<sub>2</sub>)微立方体中掺加钯元素，所述微立方体尺寸为1～2μm，壳层由20～50nm的SnO<sub>2</sub>颗粒组成，厚度为100～200nm。 | ||
| 地址 | 430074 湖北省武汉市洪山区雄楚大街693号 | ||