小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备

摘要

本发明公开了一种小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备，将小尺寸钕铁硼磁体试样与钢珠一起放入专用真空镀膜设备的滚筒中，抽真空至6-9×10-3pa，开启滚筒转动并继续抽真空至3-6×10-3pa后，通入氩气至真空度为3-6×10-1pa后，开启靶源，开始真空镀膜；专用镀膜设备炉体结构为卧式，真空炉体内装有网状滚筒，滚筒的一端固定在后炉壁上并由转轴带动，靶源分别设定在炉体两侧，靶面对准滚筒；此种镀膜方法的特点是无污染，对磁体无损伤，专用镀膜设备结构简单，对试样形状限定小，镀膜效率高；主要用于小尺寸钕铁硼磁体表面金属防腐膜层的制备。

主权项

小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法，其特征在于，包括如下工艺步骤：将脱脂酸洗后的小尺寸钕铁硼磁体试样与钢珠一起放入专用镀膜设备的滚筒中，关闭炉门抽真空至6‑9×10^‑3pa后，开启滚筒转动使钢珠与磁体混合均匀，滚筒转速为5‑20r/min，继续抽真空至3‑6×10^‑3pa后，打开氩气至真空度为3‑6×10^‑1pa后，打开靶源，开始镀膜。