微影装置及器件制造方法;LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

本发明揭示一种微影装置，该微影装置包括一相位调整器，该相位调整器系用以在将一图案曝光于一基板上期间调整横穿该相位调整器之一光学元件之一光波的一相位。在一实施例中，该光学元件为该微影装置之一投影系统中的一热可控制光学元件。在使用中，藉由包括一轴外辐射光束之一照明模式来照明该图案。此光束经绕射成数个第一级经绕射光束，一第一级经绕射光束系与该图案中沿着一第一方向之一第一间距相关联，另一第一级经绕射光束系与该图案中沿着一不同第二方向之一第二间距相关联。识别与该第一间距相关联之该第一级经绕射光束横穿该光学元件之一区域。藉由相对于另一第一级经绕射光束之光学相位而计算此第一级经绕射光束之一所要光学相位来最佳化该图案之一影像的一影像特性。该相位调整器经控制以将该所要光学相位施加至该第一级经绕射光束。