| 摘要 |
1. Композиция, содержащая множество многослойных драже, содержащих:a. водорастворимое ядро;b. антагонист, содержащий слой, включающий налтрексон HCl, покрывающий ядро;c. слой секвестрирующего полимера, покрывающий слой, содержащий антагонист;d. слой агониста, включающий опиоидный агонист, покрывающий слой секвестрирующего полимера; иe. слой с контролируемым высвобождением, покрывающий слой агониста;где налтрексон HCl содержит, по меньшей мере, 10% мас./мас. опиоидного агониста, и где агонист по существу секвестрируется и налтрексон HCl по существу секвестрируется при введении субъекту.2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что налтрексон HCl содержит от приблизительно 10% до приблизительно 30% мас./мас. опиоидного агониста.3. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что налтрексон HCl содержит от приблизительно 10% до приблизительно 25% мас./мас. опиоидного агониста.4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что налтрексон HCl содержит от приблизительно 10% до приблизительно 20% мас./мас. опиоидного агониста.5. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что опиоидный агонист представляет собой оксикодон.6. Композиция, содержащая множество многослойных драже, содержащих:a. водорастворимое ядро;b. антагонист, содержащий слой, содержащий налтрексон HCl, покрывающий ядро;c. слой секвестрирующего полимера, покрывающий слой, содержащий антагонист;d. слой агониста, содержащий опиоидный агонист, покрывающий слой секвестрирующего полимера; иe. слой с контролируемым высвобождением, покрывающий слой агониста;где масса налтрексона HCl содержит, по меньшей мере, 5% комбинированной массы водорастворимого ядра, слой антагониста и слой секвестрирующего полимера, и где аг |
