发明名称 プラズマ処理装置およびこれを用いたシリコン薄膜太陽電池の製造方法
摘要 <p>プラズマ処理装置は、チャンバと、チャンバ内において互いに離隔しつつ互いに平行に配置された複数の対向電極対とを備え、前記複数の対向電極対のうちの1つである電極対は、互いに平行になるように離隔して配置された第1電極(31)および第2電極(32)からなる。これらの電極は、互いに主表面(4)同士が対向するように配置されている。第1電極(31)は、ガス入口(7)に連なるように、突出する金属配管部(14)を備え、金属配管部(14)には原料ガス供給源から原料ガスを移送するための樹脂配管(13)がチャンバ内において接続されており、第1電極(31)と第2電極(32)とが対向することによって挟まれる空間(33)の端を基準として、金属配管部(14)が突出する長さLは、20mm以上である。</p>
申请公布号 JPWO2013038899(A1) 申请公布日期 2015.03.26
申请号 JP20130533596 申请日期 2012.08.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;C23C16/455;H01L31/06;H05H1/46 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址