发明名称 |
图案特征的分析 |
摘要 |
这些实施例公开了用于电子固化反色调处理的方法,包括将抗蚀层沉积到图案化压印的抗蚀剂层上,该图案化压印的抗蚀剂层被制造到硬掩膜层上,该硬掩膜层被沉积到衬底上,在压印图案特征进入硬掩膜并进入衬底的蚀刻过程期间利用电子束剂量来固化抗蚀层以及利用分析过程来量化减少的图案特征布置漂移误差并量化所蚀刻的压印图案特征的增加的图案特征尺寸均匀性。 |
申请公布号 |
CN104470701A |
申请公布日期 |
2015.03.25 |
申请号 |
CN201380037980.6 |
申请日期 |
2013.07.15 |
申请人 |
希捷科技有限公司 |
发明人 |
于兆宁;N·仓高;G·高兹纳 |
分类号 |
B29C59/02(2006.01)I;B29C33/42(2006.01)I |
主分类号 |
B29C59/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
姬利永 |
主权项 |
一种用于电子固化反色调处理的方法,包括:将抗蚀层沉积到图案化压印的抗蚀剂层上,所述图案化压印的抗蚀剂层被制造到硬掩膜层上,所述硬掩膜层被沉积到衬底上;在压印图案特征进入所述硬掩膜并进入所述衬底的蚀刻过程期间利用电子束剂量固化所述抗蚀层;以及利用分析过程来量化减少的图案特征布置漂移误差并量化所蚀刻的压印图案特征的增加的图案特征尺寸均匀性。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |