| 发明名称 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板制备方法、阵列基板、显示装置，用于解决现有技术存在的阵列基板制备过程中使用的掩膜板数量多且制备成本高的问题。本发明提供的阵列基板的制备方法、阵列基板、显示装置，由于将刻蚀阻挡层采用钝化层的掩膜板制备，减少了阵列基板制备构成中使用的掩膜板，降低了制备成本。 | ||
| 申请公布号 | CN104465512A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201510004807.7 | 申请日期 | 2015.01.06 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 白金超;郭总杰;丁向前;刘耀;刘晓伟;张逵 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底上通过构图工艺形成包括有源层的图形；在形成有源层的所述衬底上沉积刻蚀阻挡层；在所述刻蚀阻挡层上沉积第一导电层，通过构图工艺形成所述第一导电层图形；在形成第一导电层图形的所述衬底上形成钝化层，通过一次构图工艺形成钝化层图形和刻蚀阻挡层图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||