充电构件、处理盒和电子照相设备

摘要

本发明公开设置有能够更加可靠地抑制低分子量组分从弹性层渗出的表面层的充电构件。所述充电构件具有基体、弹性层和表面层。所述表面层具有Si-O-Ta键，并包含具有由下述结构式(1)表示的结构单元和由下述结构式(2)表示的结构单元的高分子化合物。TaO_5/2      (2)。

主权项

一种充电构件，其包括：基体；弹性层；和表面层，其特征在于所述表面层包含具有Si‑O‑Ta键并具有由下述结构式(1)表示的结构单元和由下述结构式(2)表示的结构单元的高分子化合物：TaO_5/2     (2)结构式(1)中，R₁和和R₂各自独立地表示结构式(3)至(6)中的任意一种：结构式(3)至(6)中，R₃至R₇、R₁₀至R₁₄、R₁₉、R₂₀、R₂₅和R₂₆各自独立地表示氢、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R₈、R₉、R₁₅至R₁₈、R₂₃、R₂₄和R₂₉至R₃₂各自独立地表示氢或具有1至4个碳原子的烷基；R₂₁、R₂₂、R₂₇和R₂₈各自独立地表示氢、氧、具有1至4个碳原子的烷氧基或具有1至4个碳原子的烷基；n、m、l、q、s和t各自独立地表示1至8的整数；p和r各自独立地表示4至12的整数；x和y各自独立地表示0或1，符号“*”表示与结构式(1)中的硅原子的键合位置，和符号“**”表示与结构式(1)中的氧原子的键合位置。