发明名称 从低纯度水制造高纯度水的方法及制造装置
摘要 本发明涉及从低纯度水制造高纯度水的方法,其特征在于,为了究明使用海水经由气体水化物而得到淡水的技术的问题,谋求解决该问题,以此为基础,从不限定于海水的、包含污水的低纯度水得到高纯度水,依次进行如下工序:使可形成气体水化物的一种或两种以上的气体与低纯度水在为比低纯度水的冰点高的温度且可形成气体水化物的条件下接触,得到在低纯度水中悬浮的固体的气体水化物的工序;一边实质上维持气体水化物状态,一边将在气体水化物形成过程中使用的低纯度水脱水,使用清洗水清洗附着于气体水化物的成分的工序;通过形成与气体水化物状态相比的高温状态或低压状态,将气体水化物转化为气体和高纯度水的工序。
申请公布号 CN102164861B 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN200980130250.4 申请日期 2009.07.30
申请人 株式会社WPG 发明人 早藤茂人;桥爪秀幸
分类号 C02F1/22(2006.01)I 主分类号 C02F1/22(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶;李昆岐
主权项 一种从低纯度水制造高纯度水的方法,所述低纯度水是海水或污水,所述高纯度水所含杂质为100ppm以下,其特征在于,依次进行如下工序:使可形成气体水化物的一种或两种以上的气体与作为海水或污水的低纯度水在为比所述低纯度水的冰点高的温度且可形成气体水化物的条件下接触,得到在所述低纯度水中悬浮的固体的气体水化物的工序,一边实质上维持气体水化物状态,一边将在气体水化物形成过程中使用的所述低纯度水脱水,使用清洗水清洗附着于气体水化物的成分的工序,通过形成与气体水化物状态相比的高温状态或低压状态,将气体水化物转化为气体和所含杂质为100ppm以下的水的工序;所述清洗水置于可一边实质上维持气体水化物状态、一边除去附着于气体水化物的外壁的杂质的条件下,所述清洗水起初为所述低纯度水,渐渐地或顺次地,使用纯度高的水。
地址 日本东京都