| 发明名称 | 用于等离子体割炬的电极结构 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于等离子体割炬的电极结构，在电极支架或保持元件内形成凹槽或钻孔用以容纳发射嵌件，在凹槽或钻孔内所插入的发射嵌件能够以力传递、形状匹配和/或材料的连续性被紧固。至少一个压力均衡通道和/或至少暂时有效的压力均衡通道通过发射嵌件存在于在凹槽或钻孔和发射嵌件内所形成的空腔和环境之间和/或发射嵌件的外套表面区域和凹槽或钻孔的内壁之间，凹槽或钻孔形成在保持元件或电极支架内。可替选或另外地，至少一个压力均衡通道和/或至少暂时有效的压力均衡通道通过保持元件存在于在凹槽或钻孔和保持元件内所形成的空腔和环境之间和/或保持元件的外套表面区域和凹槽或钻孔的内壁之间，凹槽或钻孔形成在电极支架或保持元件内。 | ||
| 申请公布号 | CN104439662A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201410469978.2 | 申请日期 | 2014.09.15 |
| 申请人 | 卡尔伯格-基金会 | 发明人 | 拉尔夫-彼得·雷因克;弗兰克·劳里施;沃克·克林克 |
| 分类号 | B23K10/00(2006.01)I | 主分类号 | B23K10/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种用于等离子体割炬的电极结构，其中，在电极支架或保持元件内形成在待处理工件的方向上在一侧开口的凹槽或钻孔用以容纳发射嵌件，在所述凹槽或钻孔内，所插入的发射嵌件能够以力传递的方式、形状匹配的方式和/或利用材料的连续性被紧固，其特征在于，至少一个压力均衡通道和/或至少暂时有效的压力均衡通道通过所述发射嵌件(7.3)存在于在凹槽或钻孔(7.2.1、7.4)和所述发射嵌件(7.3)内所形成的空腔和环境之间，和/或存在于所述发射嵌件(7.3)的外套表面区域和所述凹槽或钻孔(7.2.1、7.4)的内壁之间，所述凹槽或钻孔(7.2.1、7.4)形成在所述保持元件(7.2)或所述电极支架(7.1)内；和/或至少一个压力均衡通道和/或至少暂时有效的压力均衡通道通过所述保持元件(7.2)存在于在凹槽或钻孔(7.2.1)和所述保持元件(7.2)内所形成的空腔和环境之间，和/或存在于所述保持元件(7.2)的外套表面区域和所述凹槽或钻孔(7.4)的内壁之间，所述凹槽或钻孔(7.4)形成在所述电极支架(7.1)或所述保持元件(7.2)内。 | ||
| 地址 | 德国芬斯特尔瓦尔德 | ||