发明名称 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板及其制造方法、太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池
摘要 本发明的钝化层形成用组合物包含下述通式(I)所示的有机铝化合物和选自烷醇钛、烷醇锆及烷醇硅中的至少一种烷醇盐化合物。在下述通式(I)中,R<sup>1</sup>分别独立地表示碳数1~8的烷基;n表示0~3的整数;X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>分别独立地表示氧原子或亚甲基;R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>及R<sup>4</sup>分别独立地表示氢原子或碳数1~8的烷基。<img file="DDA0000654186440000011.GIF" wi="702" he="511" />
申请公布号 CN104471715A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201380036883.5 申请日期 2013.07.12
申请人 日立化成株式会社 发明人 足立修一郎;吉田诚人;野尻刚;仓田靖;田中彻;织田明博;早坂刚
分类号 H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/068(2012.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/0216(2014.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种钝化层形成用组合物,其包含下述通式(I)所示的有机铝化合物和选自烷醇钛、烷醇锆及烷醇硅中的至少一种烷醇盐化合物,<img file="FDA0000654186410000011.GIF" wi="861" he="620" />通式(I)中,R<sup>1</sup>分别独立地表示碳数1~8的烷基,n表示0~3的整数,X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>分别独立地表示氧原子或亚甲基,R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>及R<sup>4</sup>分别独立地表示氢原子或碳数1~8的烷基。
地址 日本东京都