| 发明名称 | 铜覆膜形成剂及铜覆膜的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明为一种铜覆膜形成剂，其含有由具有1～3个氮原子的五元或六元的含氮杂环式化合物和甲酸铜形成的铜络合物，所述含氮杂环式化合物具有1个或2个环结构，取代基中所含的碳原子的总数为1～5，该化合物中的碳原子以外的元素没有与氢原子键合。 | ||
| 申请公布号 | CN104471108A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201380036469.4 | 申请日期 | 2013.05.30 |
| 申请人 | 四国化成工业株式会社 | 发明人 | 饭田宗作;村井孝行;平尾浩彦 |
| 分类号 | C23C18/08(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 盛曼;金龙河 |
| 主权项 | 一种铜覆膜形成剂，其含有由具有1～3个氮原子的五元或六元的含氮杂环式化合物和甲酸铜形成的铜络合物，所述含氮杂环式化合物具有1个或2个环结构，取代基中所含的碳原子的总数为1～5，该化合物中的碳原子以外的元素没有与氢原子键合。 | ||
| 地址 | 日本香川县 | ||