支撑单元及具有支撑单元的基底处理设备,申请号TW100140040-传众专利搜索

发明名称	支撑单元及具有支撑单元的基底处理设备
摘要
申请公布号	TWI478276	申请公布日期	2015.03.21
申请号	TW100140040	申请日期	2011.11.02
申请人	ＡＰ系统股份有限公司	发明人	李镇焕;李亨根
分类号	H01L21/683;H01L21/67	主分类号	H01L21/683
代理机构		代理人	詹铭文台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项	一种支撑单元，用于对待处理物体进行加热，所述支撑单元包括：加热器块，其经配置以对所述待处理物体进行加热；传热板，其连接到所述加热器块的一侧；金属板，其设置在所述传热板与所述待处理物体之间，所述金属板的一侧连接到所述传热板且另一侧连接到所述待处理物体；以及基座，设置在所述金属板上，其中所述基座与所述金属板的材料的热膨胀系数差为4微米/开(micro/K)到5微米/开。
地址	南韩