发明名称 微影装置及微影投影方法
摘要
申请公布号 TWI477923 申请公布日期 2015.03.21
申请号 TW101104578 申请日期 2012.02.13
申请人 ASML荷兰公司 发明人 毕瑞恩斯 洛德 安东尼斯 凯萨琳娜 玛利亚;德 葛路特 安东尼司 法兰西斯科司 乔汉尼司
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种微影装置,其包含:用于支撑一第一图案化器件之一第一支撑件及经建构以支撑一第二图案化器件之一第二支撑件,该第一图案化器件及该第二图案化器件能够在一辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束;用于固持一基板之一基板台;及用于将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上之一投影系统,其中该第一支撑件及该第二支撑件系可在一扫描方向上遍及在该扫描方向上该第一图案化器件或该第二图案化器件之至少一长度之一扫描距离而移动,其中该第一支撑件及该第二支撑件系可在实质上垂直于该扫描方向之一第二方向上遍及在该第二方向上该第一图案化器件或该第二图案化器件之至少一宽度之一距离而移动,其中藉由在该第二方向上移动而使该第一支撑件及该第二支撑件与该投影系统选择性地对准,且其中在该第一支撑件及该第二支撑件中之一者在该扫描方向上之移动期间,该第一支撑件及该第二支撑件中之另一者在该第二方向上移动、随后在与该扫描方向反平行(anti-parallel)之一方向上移动并接着在与该第二方向相反之一方向上移动。
地址 荷兰