发明名称 溅镀装置
摘要
申请公布号 TWI477634 申请公布日期 2015.03.21
申请号 TW102106970 申请日期 2013.02.27
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 石原繁纪
分类号 C23C14/34;C23C14/56 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种溅镀装置,属于配置有:真空腔室;及基板平台,设于前述真空腔室内而用来保持基板;及复数个阴极电极,与前述基板平台相向设置而用来保持各个靶材;及防附着板,配置于前述基板平台与前述阴极电极之间,在与前述复数个靶材的各个相向之位置形成有孔;该溅镀装置,其特征为:在前述防附着板与前述基板平台之间具有闸门板,该闸门板形成有使前述靶材对前述基板露出之至少一个孔,藉由以旋转轴为中心之旋转,将前述靶材与前述基板做成遮蔽状态或非遮蔽状态,在前述防附着板与前述闸门板彼此相向的各自之面,形成有以该闸门板的旋转轴为中心之同心状的凹凸形状,在前述各自之面形成的前述凹凸形状,是形成为各自的凹部与凸部互相面对面,且各自的凹部与凸部互相交错。
地址 日本