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经营范围
发明名称
微结构之制造方法
摘要
申请公布号
TWI477653
申请公布日期
2015.03.21
申请号
TW101107028
申请日期
2012.03.02
申请人
东芝股份有限公司
发明人
渡边桂;水岛一郎
分类号
C23F1/00
主分类号
C23F1/00
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种制造微结构之方法,包括:在图案化材料上形成导膜,该图案化材料之上表面为疏水性,于该导膜中制作开孔,该导膜之上表面为亲水性,该开孔之侧表面为疏水性;藉由施用溶液以覆盖该图案化材料及该导膜,将该溶液分离为疏水嵌段及亲水嵌段,且固化该溶液来形成固化膜,该溶液包含具有疏水部及亲水部之两亲聚合物,该疏水部之长度较该亲水部之长度长,该疏水部系聚集于该疏水嵌段中,该亲水部系聚集于该亲水嵌段中;藉由自该固化膜移除该亲水嵌段而形成遮蔽部件;且使用该遮蔽部件作为遮罩对该图案化材料进行处理。
地址
日本
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