发明名称 微结构之制造方法
摘要
申请公布号 TWI477653 申请公布日期 2015.03.21
申请号 TW101107028 申请日期 2012.03.02
申请人 东芝股份有限公司 发明人 渡边桂;水岛一郎
分类号 C23F1/00 主分类号 C23F1/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种制造微结构之方法,包括:在图案化材料上形成导膜,该图案化材料之上表面为疏水性,于该导膜中制作开孔,该导膜之上表面为亲水性,该开孔之侧表面为疏水性;藉由施用溶液以覆盖该图案化材料及该导膜,将该溶液分离为疏水嵌段及亲水嵌段,且固化该溶液来形成固化膜,该溶液包含具有疏水部及亲水部之两亲聚合物,该疏水部之长度较该亲水部之长度长,该疏水部系聚集于该疏水嵌段中,该亲水部系聚集于该亲水嵌段中;藉由自该固化膜移除该亲水嵌段而形成遮蔽部件;且使用该遮蔽部件作为遮罩对该图案化材料进行处理。
地址 日本