发明名称 位置量测系统、微影装置及器件制造方法
摘要
申请公布号 TWI477924 申请公布日期 2015.03.21
申请号 TW101128319 申请日期 2012.08.06
申请人 ASML荷兰公司 发明人 柯恩 威廉 赫曼 捷度达 安纳;屋森 艾蜜尔 乔瑟夫 米兰尼;凡 德 派希 英格伯特斯 安东尼斯 法兰西斯寇斯;范 里温 罗博特 爱德格;克佛耶兹 安卓尼斯 亨瑞克
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种位置量测系统,其包含:一第一部件(part)及一第二部件,其经组态以判定一第一构件(member)相对于一第二构件之一位置,其系藉由提供表示该第一部件相对于该第二部件之一位置之一位置信号;及一计算单元(computational unit),其包含经组态以接收该位置信号之一输入端子,该计算单元经组态以在使用时将一转换(conversion)应用于该位置信号以获得表示该第一构件相对于该第二构件之一位置之一信号,且将一调整(adjustment)应用于该转换以至少部分地补偿该第一部件或该第二部件或其两者之一漂移(drift),其中该调整系分别基于该第一部件或该第二部件或其两者之一预定漂移特性(predetermined drift characteristic),且其中该预定漂移特性包括该第一部件或该第二部件或其两者之一或多个基础形状(base shapes)。
地址 荷兰