首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
发光装置之光量补偿检查方法
摘要
申请公布号
TWI477404
申请公布日期
2015.03.21
申请号
TW101120760
申请日期
2012.06.08
申请人
日昌电子股份有限公司
发明人
吉田治信;张子良;彭柏雄
分类号
B41J2/447;B41J2/45;G06K15/12
主分类号
B41J2/447
代理机构
代理人
李文贤 新北市板桥区民生路1段33号17楼之3
主权项
一种发光装置之光量补偿检查方法,该发光装置包含复数发光元件,该光量补偿检查方法包含:逐一对该些发光元件执行下列步骤:量测该发光元件于一基准时间区间内输出的一原始光量;根据所测得的该原始光量与一基准光量产生对应该发光元件的一校正值;以及根据该校正值调整该发光元件的光输出,使该原始光量达到一目标光量。
地址
新北市新店区宝桥路235巷132号6楼
您可能感兴趣的专利
RECEIVER
METHOD AND DEVICE FOR SHORTENING CRITICAL PATH OF SEQUENCE ESTIMATION TECHNOLOGY REDUCING COMPLEXITY
PIEZOELECTRIC VIBRATING ELEMENT AND FILTER USING THE SAME
PORTABLE TELEPHONE SET
METHOD OF MOUNTING ELECTRONIC COMPONENT
NETWORK MANAGEMENT UNIT, NETWORK MANAGEMENT METHOD, AND COMPUTER READABLE RECODING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON
ULTRAVIOLET LASER OSCILLATOR
CURRENT DETECTOR PROVIDED WITH HALL ELEMENT
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
SOI-TYPE THYRISTOR
SEMICONDUCTOR INTEGRATED-CIRCUIT DEVICE AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED-CIRCUIT WIRING APPARATUS
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
METHOD AND APPARATUS FOR THERMALLY OXIDIZING SEMICONDUCTOR
APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA TREATING
METHOD FOR ANNEALING DIAMOND
SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
OUTER CORE REACTOR AND ASSEMBLY METHOD OF OUTER CORE REACTOR
APPARATUS AND METHOD FOR TREATING
CONNECTION DEVICE FOR LINEAR LIGHT SOURCE