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Die vorliegende Erfindung betrifft eine Obskurationsblende für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem äußeren Blendenring (11, 21, 51) und einer innerhalb des Blendenrings befindlichen Innenblende (12, 22, 32, 42, 52) zum Ausblenden eines inneren Bereichs (54) eines Arbeitslichtstrahls (53), wobei die Innenblende (12, 22, 32, 42, 52) eine Kühleinrichtung aufweist, die so ausgebildet ist, dass eine definierte Wärmereduzierung in der Innenblende ermöglicht wird. Außerdem betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, die eine Kühlanlage aufweist, die so ausgebildet ist, dass eine definierte Wärmereduzierung der Innenblende der Obskurationsblende ermöglicht wird. Außerdem betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage, bei der die Obskurationsblende so eingesetzt wird, dass die Erwärmung der Innenblende minimiert wird. |
