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Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie dient zur Führung von Beleuchtungslicht hin zu einem Objektfeld. Ein Feldfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik hat eine Vielzahl von zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbaren Einzelspiegeln. Ein Pupillenfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik hat eine Mehrzahl von stationären Pupillenfacetten und ist dem Feldfacettenspiegel im Strahlengang des Beleuchtungslichts nachgeordnet. Die Pupillenfacetten dienen zur zumindest abschnittsweise überlagernden Abbildung einer Gruppe der Einzelspiegel des Feldfacettenspiegels in das Objektfeld über einen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal. Zumindest einige der Einzelspiegel sind in einem Wechselabschnitt (36) des Feldfacettenspiegels angeordnet. Die Einzelspiegels innerhalb des Wechselabschnitts (36) sind je nach Einzelspiegel-Kippstellung zu zwei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen (25a, 25b) zuordenbar, die über verschiedene Pupillenfacetten in das Objektfeld abgebildet werden. Der Wechselabschnitt (36) hat senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung (y) eine Erstreckung (x1/3), die, abgebildet auf das Objektfeld, höchstens die Hälfte einer Erstreckung des Objektfeldes senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung (y) beträgt. Eine derartige Auslegung des Feldfacettenspiegels kann zur Einhaltung von vorgegebenen Beleuchtungsparametern innerhalb ebenfalls vorgegebener Toleranzbereiche genutzt werden. |
